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       氮氣晶圓烘片機應用于手動晶圓烘干，對濕法腐蝕清洗后的晶圓進行烘干的操作。4寸、6寸、8寸（向下兼容）晶圓可適用，采用氮氣加熱的方式可一次性烘干5片以上晶圓（具體可定制）。

      區別于市場上動輒十幾萬、幾十萬的晶圓清洗甩干機不同，本產品具有操作簡單、價格低廉、性價比高等優點，特別適合大學院校、研發實驗室對產量要求不高、預算有限的產品研發與產品驗證。

基本配置：整機尺寸：453mm（長）×550mm（寬）

1）875mm（高）;具體如下：

2）主體材料: 316鏡面不銹鋼板

3）316不銹鋼熱氮氣槽：（8英寸晶片單片）槽體尺寸： 300mm×300mm×300mm；均配不銹鋼翻蓋，設備后有維修門。

4）槽體底部有殘液排液口與排氣口

5）石英在線加熱器，位于N2烘干槽下部，內包保溫棉。加熱功2500W。加熱后氮氣從槽體上部、底部進入不銹鋼槽內錐形噴嘴，均勻向晶片上部及底部片吹熱氮氣，氮氣壓力、流量可調，控溫范圍：室溫-70℃。連續可調。槽底部有調速電機，旋轉盤，晶片支架。轉速可調節，轉速：7-100轉可調。

6）供電電源使用單相交流220V,50HZ。整機功率2.8KW。

7）設備外圍條件：（僅供參考）

1.  使用氮氣壓力：     0.35～0.6MPa；

2.  使用氮氣管徑:     φ10；

3.  用氮氣流量：       40L/min

4.  排液口管徑：      大于設備排液口徑；

5.  電源：單相交流220VAC±10%；頻率: 50HZ；電源供電，空氣斷路器使用16A。